Kaufmann, Johannes; Ciesielski, Richard; Freiberg, Katharina; Walther, Markus; Herrero, Analía Fernández; Lippmann, Stephanie; Soltwisch, Victor; Siefke, Thomas; Zeitner, Uwe:
Fabrication of ultra-shallow EUV gratings in silicon via ion irradiation
SPIE optical engineering + applications: Advances in X-Ray/EUV Sources, Optics, and Components XX; San Diego, California, United States; 03.08.-08.08.2025
In: Advances in X-ray/EUV sources, optics, and components XX / Mimura, Hidekazu; Khounsary, Ali M. (Hrsg.). - SPIE optical engineering + applications: Advances in X-Ray/EUV Sources, Optics, and Components XX; San Diego, California, United States; 03.08.-08.08.2025 - Bellingham, Washington, USA: SPIE, 2025 - (Proceedings of SPIE ; 13620), Artikel 136200I
2025Konferenz-/Tagungsbeitrag in Konferenz-/TagungsbandClosed Access
Physikalisch-Astronomische Fakultät » Institut für Angewandte PhysikPhysikalisch-Astronomische Fakultät » Otto-Schott-Institut für Materialforschung (OSIM, Löbdergraben 32)
Damit verbunden: 1 Publikation(en)
Titel in Englisch:
Fabrication of ultra-shallow EUV gratings in silicon via ion irradiation
Konferenz
SPIE optical engineering + applications: Advances in X-Ray/EUV Sources, Optics, and Components XX; San Diego, California, United States; 03.08.-08.08.2025
Autor*in:
Kaufmann, JohannesFSU
GND
1353496317
ORCID
0009-0006-8802-6361ORCID iD
SCOPUS
59345886000
Sonstiges
der Hochschule zugeordnet
korrespondierende*r Autor*in
;Ciesielski, Richard
SCOPUS
55946435500
;Freiberg, KatharinaFSU
GND
1311072837
ORCID
0000-0001-8821-4529ORCID iD
SCOPUS
56013942100
Sonstiges
der Hochschule zugeordnet
;Walther, MarkusFSU
GND
1366479122
ORCID
0009-0009-8494-962XORCID iD
SCOPUS
58282817000
SCOPUS
59731184500
Sonstiges
der Hochschule zugeordnet
;Herrero, Analía Fernández
SCOPUS
57190407064
;Lippmann, StephanieFSU
GND
112072807X
ORCID
0000-0002-8250-4696ORCID iD
SCOPUS
56119046600
Sonstiges
der Hochschule zugeordnet
;Soltwisch, Victor
SCOPUS
35286154100
;Siefke, ThomasFSU
GND
1205493026
ORCID
0000-0001-6876-4080ORCID iD
SCOPUS
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Sonstiges
der Hochschule zugeordnet
;Zeitner, UweFSU
GND
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ORCID
0000-0002-3980-6971ORCID iD
SCOPUS
6604037749
Sonstiges
der Hochschule zugeordnet
Erscheinungsjahr:
2025
Open-Access-Publikationsweg:
Closed Access
DOI
10.1117/12.3061518
Scopus ID
105024352834
Sprache des Textes:
Englisch
Erschienen in
Advances in X-ray/EUV sources, optics, and components XX
Konferenz
SPIE optical engineering + applications: Advances in X-Ray/EUV Sources, Optics, and Components XX; San Diego, California, United States; 03.08.-08.08.2025
Herausgeber*in:
Mimura, Hidekazu;Khounsary, Ali M.
Herausgebende Einrichtung:
SPIE
GND
10182148-7
Erscheinungsort:
Bellingham, Washington, USA
Verlag:
SPIE
Erscheinungsjahr:
2025
in:
Artikel 136200I
ISBN
978-1-5106-9149-0
ISBN
978-1-5106-9148-3
Sprache des Textes:
Englisch
in der Reihe/Serie
Proceedings of SPIE
in:
Band 13620
Schlagwort, Thema:
Röntgenoptik » Extremes Ultraviolett » Synchrotronstrahlung
Ressourcentyp:
Text
Teil der Statistik:
Nein
Schlagwort, Thema:
EUV ; grating ; ion irradiation ; nanofabrication ; Nanostructuring ; nanotechnology ; soft X-ray ; swelling
Datenträgertyp:
Online-Ressource
Ressourcentyp:
Text
Access Rights:
nur Zugriff auf Metadaten
Teil der Statistik:
Ja
DESTATIS Fachsystematik:
3637 Optik Quantenoptik, Physik der Atome, Moleküle und Plasmen
DESTATIS Fachsystematik:
3680 Festkörper-, Oberflächen- und Materialphysik